低壓真空滲碳爐是專門用來做真空滲碳淬火工藝的爐子，它不同于傳統(tǒng)真空爐將零件裝爐后，抽到高真空，然后再加熱到滲碳溫度，通入少量的滲碳氣體進行滲碳，通常滲碳時在5-20毫巴的低真空下進行，因此稱其為低壓真空滲碳工藝，滲碳結(jié)束后進行淬火得到馬氏體為主的組織。傳統(tǒng)真空爐是在無氣體的真空環(huán)境下工作，將零件進行加熱、保溫和冷卻，來實現(xiàn)熱處理工藝，一般可做無氧化的淬火、退火等工藝。真空度相對較高。低壓真空滲碳爐是在低壓真空狀態(tài)下，通過多次強滲+擴散過程，以達到零件滲層深度要求的工藝過程，其控制方法為“飽和值調(diào)整法”。即在強滲期使奧氏體固溶碳飽和，在擴散期固溶的碳向內(nèi)部擴散到目標(biāo)的要求值，通過調(diào)整滲碳、擴散時間比，達到控制表面碳濃度和滲碳層深度的目的。其優(yōu)點是：

1.無內(nèi)氧化，能顯著提高零件表面疲勞性能。

2.處理后畸變小。

3.計算機控制，滲碳精度高。

4.處理后產(chǎn)品表面呈光亮狀，可不經(jīng)清洗、噴丸工序。